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ePaper created 2015-10-20, 16:14:07 | version 1.38.0
DENTAL TRIBUNE Hispanic & Latin AmericaInvestigación16 CLSM LEXT 4000 3D (Olympus, Ja- pón), midiéndose el espesor de la capa adherida superficial, la capa química de intercambio iónico diná- mico con el esmalte y la penetración subsuperficial en la estructura del es- malte de la capa de remineralización. Se determinó: a) que el espesor pro- medio en la superficie del esmalte de CPP-ACP MI Varnish es de ±112.3µm; b) que el biomaterial permaneció ad- herido a la superficie del esmalte, sin desprendimientos o fracturas, resis- tiendo el corte con micrótomo, el pu- lido con dióxido de silicio y con pasta diamantada; c) que la penetración subsuperficial de CCP-ACP MI Var- nish fue de ±163.6µm; d) la presencia de una capa química de intercambio iónico dinámico entre MI Varnish y esmalte; e) el sellado superficial de los microporos adamantinos produ- cido por la desmineralización; f) la presencia de una capa continua de remineralización adamantina (Figu- ras 27-37). Conclusiones A. Los resultados obtenidos en los estudios realizados con microscopía confocal laser scanning posibilitaron determinar que: 1) el espesor eva- luado de la capa adherida a esmal- te fue, para el CCP-ACP MI Paste de 216.2µm, en CPP-ACPF MI Paste Plus de 236.7µm y para CCP-ACP MI Var- nish es ±112.3µm; 2) la penetración de los iones de calcio y fósforo den- tro del esmalte fue para CCP-ACP MI Paste de 103.5µm, el de CPP-ACPF MI Paste Plus de ±125.2µm y el de CCP- ACP MI Varnish es ±162.5µm. B. Los resultados obtenidos de es- tudios realizados con microscopia confocal laser scanning por re- flexión CLSM LEXT 4000 3D y Mi- crosonda por Dispersión de Energía EPMA JEOL JXA-8230 sobre topolo- gía tridimensional permitieron de- terminar: 1) que CPP-ACP, MI Paste, MI Paste Plus y MI Varnish generan fenómenos de remineralización su- perficial y subsuperficial de la es- tructura adamantina en caries ini- ciales en estadio de mancha blanca, con sellado superficial de los micro- poros adamantinos producido por la desmineralización; 2) la existencia de una capa de intercambio iónico dinámico entre esmalte superficial y MI Paste, MI Paste Plus y MI Var- nish; 3) la presencia de una capa iónica continua de remineralización adamantina. Los autores concluyen que por la simplicidad en su aplicación clínica y los resultados obtenidos con estos materiales remineralizantes, se pro- porciona un futuro promisorio en la prevención y tratamiento de lesiones de caries iniciales e hipersensibilidad post-blanqueamiento y para atenuar la sensibilidad en erosiones, abrasio- nes y abfracciones para su posterior reconstrucción con un material de restauración adecuado. Figura 29. Micrografía con Mi- crosonda Electrónica EPMA de la composición de MI Varnish. El área demarcada indicada con la letra A, posicionada dentro de MI Varnish, indica la zona analizada. EPMA JXA- 8230 (JEOL), x1.000. Figura 32. Micrografía con EPMA de la unión entre MI Varnish y esmalte subsuperficial. El área demarcada con la letra B, indica la zona analiza- da. EPMA JXA-8230 (JEOL) x1.000. Figura 35. Micrografía con EPMA de la unión entre MI Varnish y esmalte subsuperficial. El área demarcada con la letra C, indica la zona analiza- da. EPMA JXA-8230 (JEOL), x1.000. Figura 30. Espectro de emisión de Rayos X de la composición química de MI Varnish efectuado con Microanálisis por Dispersión de Energía EPMA JXA-8230 (JEOL). Figura 33. Espectro de emisión de Rayos X de la composición química de la unión de MI Varnish con esmalte superficial, efec- tuado con Microanálisis por Dispersión de Energía EPMA JXA-8230 (JEOL). Figura 36. Espectro de emisión de Rayos X de la composición química de la unión de MI Varnish con esmalte subsuperficial, efectuado con Microanálisis por Dispersión de Energía EPMA JXA-8230 (JEOL). Figura 31. Composición química de MI Varnish. La fórmula química indica: ms% es porcentaje de masa; mol% es porcentaje atómico; Sigma el error; Net son las cuentas medidas; Line es la línea de emisión. EPMA JXA-8230 (JEOL). Figura 34. Composición química de MI Varnish con esmalte superficial. La fórmula química indica: ms% es porcentaje de masa; mol% es porcentaje atómico; Sigma el error; Net son las cuentas medidas; Line es la línea de emisión. EPMA JXA-8230 (JEOL). Figura 37. Composición química de MI Varnish con esmalte subsuperficial o cuerpo de la lesión. La fórmula química indica: ms% es porcentaje de masa; mol% es porcentaje atómico; Sigma el error; Net son las cuentas medidas; Line es la línea de emi- sión. EPMA JXA-8230 (JEOL). Figura 28. Micrografía con Microsonda Electrónica EPMA, donde se visualiza la capa de Mi Varnish adherida al esmalte bucal, la capa de remineralización super- ficial y la penetración subsuperficial en esmalte. EPMA JEOL JXA- 8230 Superprobe (JEOL), x1.000. Lea el caso clínico resultado de esta investigación en DT Latinoamérica no. 12.